シンクロトロン放射光工学

Radiated ray by synchrotron engineering

専門基礎科目（専門関連科目）

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工学部

4年

HETBL4MCA1

2単位

講義 (Lecture)

2024年度前期

春山 雄一、天野 壮、橋本 智、原田 哲男、渡邊 健夫、鈴木 哲、中西 康次、神田 一浩

高度産業科学技術研究所

日本語

目標9

随時・担当者居室・授業終了時

haruyama@lasti.u-hyogo.ac.jp（春山）

3◎／4〇

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講義目的
放射光を用いた先端産業利用に対する知見を深めるために，基礎知識に関する講義を受講した後に，放射光実験の課題に取り組む。受講者は，放射光科学のリテラシー修得により，放射光科学の広い研究分野を見渡すことができるようになることを目的とする。そのために講義と実習を通して放射光実験技術を修得しながら放射光の特性とそれがどのように産業利用されているかを説明できることを授業の中心テーマとする。

到達目標
①放射光の発生の原理、②X線と物質の相互作用によって起こる吸収、発光等の現象のメカニズム、③強力な光である放射光を用いることでどのような研究開発・産業利用が可能になったかを説明できる。

シンクロトロン放射光

講義内容
放射光の発生原理と発生原理に基づく特徴、それぞれのエネルギーの電磁波と物質の相互作用、放射光を利用するためのビームラインなど共通基礎的な説明を行った上で、放射光利用の大きな柱である、電子材料分析、マイクロマシニング、EUVリソグラフィーなどについての講義を行う。

講義予定スケジュール
第1講　オリエンテーション、放射光の特徴と利用
第2講　放射光発生原理と電子ビーム加速器（I）
第3講　放射光発生原理と電子ビーム加速器（II）
第4講　ビームライン真空光学技術　
第5講　先端半導体用超微細加工技術  
第6講　光伝送技術と多層膜の反射率測定
第7講　光電子分光法（基礎編）
第8講　光電子分光法（応用編）
第9講　Ｘ線吸収分光・発光分光(I)
第10講　Ｘ線吸収分光・発光分光(II)  
第11講　放射光顕微分光・イメージング
第12講　量子ビームを利用した全構造分析
第13講　表面改質　
第14講　レーザーコンプトンガンマ線(I)
第15講　レーザーコンプトンガンマ線(II)

（注）授業の進捗や放射光施設ニュースバルの運転状況等で、講義の順序や内容の一部が変更になることもあります。

生成系AIの利用： 生成系AIの利用については教員の指示に従うこと。生成系AIによる出力結果をそのまま課題レポートとして提出してはいけない。生成系AIによる出力をそのまま提出したことが判明した場合は単位を認定しない、又は認定を取り消すことがある。

特に指定しない。

講義中に紹介する。

【予習】授業に際して指示するテキスト・オンデマンド教材の部分を事前読み込み（15ｈ）
【復習】レポート作成（5回、10ｈ）、講義内容の理解を深め定着させるためにテキスト・オンデマンド教材を読み直し（15ｈ）

採用しない。

【成績評価の基準】
講義目的・達成目標に記載する達成度に基づき，S（90点以上），A（80点以上），B（70点以上），C（60点以上）による成績評価のうえ，単位を付与する。

【成績評価の方法】
各講義毎で小テストあるいはレポート課題を与え、それぞれの小テストおよびレポートの合算で成績評価を行う。

適宜、講義中に課題・レポートについての結果についてフィードバックを行う。

特にありません。

該当しない。