放射光材料工学Ⅱ

Material Engineering Using SynchrotronRadiation Ⅱ

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材料・放射光工学専攻科目

工学研究科

1年

HETMH5MCA1

2単位

講義 (Lecture)

2025年度後期

山川 進二

高度産業科学技術研究所

日本語

該当なし

随時・ニュースバル

s.ymkw@lasti.u-hyogo.ac.jp

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3〇／4〇

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＜講義の目的＞
放射光は従来の光に比べて輝度が高いので、放射光を用いて様々な分析および応用研究が進められている。本講義では、特にEUVリソグラフィーにおける放射光利用技術について講義する。
＜到達目標＞
EUVリソグラフィーの基礎と問題点を説明し、放射光を用いた分析・評価方法を提案できる。

ニュースバルにおけるEUVリソグラフィーと放射光分析
キーワード：EUVリソグラフィー、フォトレジスト、放射光分析、軟Ｘ線、吸収分光、X線散乱、光電子分光

＜講義内容＞
EUVリソグラフィーにおいて、フォトレジストやフォトマスクなどの材料の高性能化が必要とされている。材料評価にはEUV照射や軟X線分析が非常に効果的である。これらの波長を網羅する放射光施設は、EUVリソグラフィーの材料評価にうってつけである。EUVの基礎からはじめ、実際のビームラインにおける材料評価技術について解説する。また、後半ではEUVリソグラフィーの次世代技術についても解説する。この講義を通し、放射光を用いた材料分析・評価方法を説明できることを目的とする。

＜講義計画＞
１−３．EUVリソグラフィーの基礎（要素技術と材料）と課題
４−６．フォトレジストの軟X線分析（X線吸収分光、X線散乱、光電子分光）
７−８．フォトレジストのEUV評価
９−１０．フォトレジストの高度化
１１−１２．フォトマスクとペリクル
１３．次世代のEUVリソグラフィー技術　Beyond EUV (BEUV)
１４−１５．BEUVの課題と材料開発

＊⽣成系AIの利⽤については教員の指⽰に従うこと。⽣成系AIによる出⼒結果をそのまま課題レポートとして提出してはいけない。 ⽣成系AIによる出⼒をそのまま提出したことが判明した場合は単位を認定しない、⼜は認定を取り消すことがある。

渡邊健夫 「EUVリソグラフィ技術　〜レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状〜」 AndTech

辻幸一、村松康司「X線分光法」日本分光学会
高桑雄二「X線光電子分光法」日本分光学会

Harry Levinson "Extreme Ultraviolet Lithography", SPIE Press.

【予習】授業に際して指示するテキスト教材の部分を事前読み込み（20ｈ）
【復習】レポート作成（1回、20ｈ）講義内容の理解を深め定着させるためにテキスト教材を読み直し（20ｈ）

採用しない

成績評価の方法
レポートの内容（80%）と受講態度（積極的な質問等, 20%）を含めて総合的に評価する。

レポートの内容は提出後の授業中に取り上げ、回答内容について解説する。

ニュースバル放射光施設にて研究・測定をしている教員が、日々利用しているビームラインでの経験を生かして、ビームライン光学系や測定手法について解説するため、実践的教育に該当する。