Advanced Electronic Process

Course Title

Course Title in English

Advanced Electronic Process

Course Type

-

専攻科目

Eligible Students

Graduate School of Engineering

Target Grade

1Year

Course Numbering Code

HETMA5MCA1

Credits

2.00Credits

The course numbering code represents the faculty managing the subject, the department of the target students, and the education category (liberal arts / specialized course). For detailed information, please download the separate manual from the upper right 'question mark'.

Type of Class

講義 (Lecture)

Eligible Year/Semester

Spring semester 2026

(Spring semester)

Instructor

Noriaki Toyoda,Kensuke Kanda

Affiliation

工学研究科

Language of Instruction

Japanese

Related SDGs

9

Office Hours and Location

開講科目一覧（履修の手引き）を参照のこと

Contact

クラスプロファイルにより問い合わせること

Corresponding Diploma Policy

A double circle indicates the most relevant DP number and a circle indicates the associated DP.

Corresponding Undergraduate School DP

ー

Corresponding Graduate School DP

1◎／3〇

Corresponding University-Wide DP

N/a

Academic Goals of Teacher Training Course

ー

Course Objectives and Learning Outcome

【授業のテーマ】
半導体を中心とした電子デバイス製造プロセスは，デバイスの高集積化，低消費電力化に直結する。本講義では荷電粒子やプラズマを用いた最先端プロセスについて解説すると共に，センサーや各種電子デバイスの製造プロセスについても理解することを目的とする。
【到達目標】
荷電粒子やプラズマを利用した先端プロセス技術や、センサーなどの電子デバイス製造方法を理解する。

Subtitle and Keywords of the Class

Course Overview and Schedule

【講義概要】
荷電粒子やプラズマを用いた最先端のプロセスに関して説明し，その発生，輸送，照射効果を解説する。さらに荷電粒子やプラズマを利用した加工装置や分析装置について説明を行い，実際にどのように微細加工技術に応用されているかを講義する。また、近年戦略物資として重要性が増している先端半導体や，センサーなどの電子デバイスについて，その製造方法の基礎的な原理を解説するとともに，先端分野での応用事例について幅広く紹介する。また，基本的な半導体プロセスについては，実際の半導体製造装置に触れることにより，装置の動作原理や加工の流れについて理解を深める。

【授業計画】
第１回：先端電子プロセスについて（豊田紀章）
第２回：真空の基礎（豊田紀章）
第３回：電子の基本的な性質（豊田紀章）
第４回：イオンの基本的な性質（豊田紀章）
第５回：荷電粒子と固体表面との相互作用（豊田紀章）
第６回：電子ビーム加工・計測装置について（豊田紀章）
第７回：イオンビーム加工・計測装置について（豊田紀章）
第８回：前半のまとめ（豊田紀章）
第９回：MEMS・半導体プロセス実習について（神田健介）
第１０回：プロセス実習/成膜工程（神田健介）
第１１回：プロセス実習/リソグラフィ（神田健介）
第１２回：プロセス実習/拡散工程（神田健介）
第１３回：プロセス実習/エッチング（神田健介）
第１４回：プロセス実習/評価（神田健介）
第１５回：後半のまとめ（神田健介）

In-person/Remote Classification

In-person

Implementation Method and Remote Credit Limit Application

Uses of Generative AI

Completely forbidden

Precautions for using Generative AI

この授業においては、生成ＡＩの利用を禁止している。授業内での利用は厳禁であり、違反したことが判明した場合は単位を認定しない、又は認定を取り消すことがある。生成ＡＩの利用にかかわらず『本学の教育における生成ＡＩの取扱いについて（学生向け）』の記載内容について留意すること。

Textbook

テーマ毎に資料を配布する。

References

M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg, "Plasma discharges and materials  processing", Wiley.

P. Gray, P. Hurst, S. Lewis, R. Meyer, "Analysis and design of analog integrated circuits", Wiley

Contents and Estimated Time for Pre- and Post- Learning (Preparation and Review)

【予習】教科書の事前読み込み[2h x 15回]
【復習】講義内容の理解を深め定着させるため教科書の復習[2h x 15回]

Contents of Active Learning

採用しない

Grading Criteria and Methods

荷電粒子やプラズマを利用した先端プロセス技術や、センサーなどの電子デバイス製造方法を理解し、明確な記述ができる者については、その理解度に基づき、受講態度（積極的な質問・発表等50%),　レポート等（50%)で総合的に評価する。S(90点以上)、A（80点以上）、B(70点以上)、C(60点以上)による成績評価の上、単位を付与する。

How to Disclose Assignments and Exam Results

演習問題等は講義時間内に解説する。ユニバーサルパスポートを使用する場合もある。

Precautions and Requirements for Course Registration

授業の予習、復習を必ず行うこと。
授業中に指示した宿題や事前・事後学習はもとより、「講義内容・授業計画」に記載したテキスト等の該当箇所などについて、十分な予習・復習をして講義に出席すること。
病気等で授業を欠席する場合、診断書、病院の領収書等（コピー可）を提出すること。

Practical Education

該当しない

Remarks

In cases where any differences arise between the English version and the original Japanese version, the Japanese version shall prevail as the official authoritative version.

Syllabus data