Semiconductor Materials

Semiconductor Materials

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材料・放射光工学専攻科目

Graduate School of Engineering

1Year

HETMA5MCA1

2.00Credits

講義 (Lecture)

Spring semester 2026

(Spring semester)

Akira Heya

工学研究科

Japanese

7／9／11

曜日・時間：金曜日　14時00分から15時00分まで
場所：C332室
注意事項：メールなどで予約必須

メールアドレス：heya@eng.u-hyogo.ac.jp
電話番号：079-267-4909

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1◎

N/a

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講義目的
薄膜形成技術には真空技術、薄膜成長機構、薄膜の評価法など、材料科学を学ぶものに対して重要な概念を含んでおり、応用を踏まえて系統的に学習する。

到達目標
薄膜技術の必要性、現在の課題等を説明し、物理的化学的観点から問題を解決する方法を提案できる。

半導体プロセス、真空技術、成膜、薄膜評価法、無機半導体、有機半導体、グラフェン、太陽電池、トランジスタ、ディスプレイ

講義内容
　半導体材料の電子物性を利用した半導体デバイスは現在の情報化社会・循環型社会 を支える重要な技術であり，新デバイス構造や新材料の開発が絶え間なく行われて いる。本講義では，半導体デバイスの重要なプロセス技術である結晶成長・薄膜形 成における物理的化学的現象について学習する。また，半導体薄膜の応用例，最近 話題の新半導体材料についても学習する。薄膜形成技術には真空技術，薄膜成長機 構，薄膜の評価法など，材料科学を学ぶものに対して重要な概念を含んでおり，応 用を踏まえて系統的に学習する。 また，学生が行っている修士研究への薄膜技術の応用についても検討する。

授業計画
１．薄膜技術の必要性
２．良い薄膜を作るためには（真空技術）
３．薄膜の形成法（物理的気相成長法）
４．薄膜の形成法（化学的気相成長法）
５．最近の薄膜形成法①
６．最近の薄膜形成法②
７．薄膜の成長機構①
８．薄膜の成長機構②
９．薄膜の評価法（膜厚、組成、構造）
１０．薄膜の評価法（化学結合状態、電気特性）
１１．最近の薄膜新材料（有機半導体）
１２．最近の薄膜新材料（カーボンナノチューブ、グラフェン）
１３．半導体薄膜の応用例（太陽電池）
１４．半導体薄膜の応用例（薄膜トランジスタ）
１５．半導体薄膜の応用例（有機ELディスプレイ）

In-person

・対面授業のみ
・遠隔授業単位上限の適用を受けない

Limited permission for use

⽣成系AIの利⽤については教員の指⽰に従うこと。⽣成系AIによる出⼒結果をそのまま課題レポートとして提出してはいけない。
⽣成系AIによる出⼒をそのまま提出したことが判明した場合は単位を認定しない、⼜は認定を取り消すことがある。

プリント配布

「薄膜技術入門」小林春洋ほか著（総合電子出版社）
「図説電子デバイス」菅博ほか著（産業図書）

【予習】プレゼンテーションの準備（30ｈ）
【復習】レポート作成（1回、30ｈ）

採用しない

レポートもしくはプレゼンテーション(100%)を評価する。

プレゼンテーションは、質疑応答でコメントを返す。
レポートは、それぞれにコメントを付して返す。

授業欠席の際の証明書:病院の領収書でも良いが、講義当日に受診していること。

該当しない。